光刻胶清洗剂
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更新时间：2024-08-20 10:36:02 信息编号：c426n71es06649

￥150

≥ 50千克

价格：
150.00 元
产地：
包头市新兴新能源科技开发有限公司
品牌：
TD
关键词：
光刻胶清洗剂

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详情介绍

光刻胶清洗剂

产品别名	光刻胶清洗剂,光刻胶	面向地区	全国	产地	包头市新兴新能源科技开发有限公司
品牌	TD	用途	光刻胶清洗剂

TD牌新型环保光刻胶清洗剂
光刻版在使用过程中会粘上光刻胶、灰尘等污染物，影响光刻效果。光刻版表面颗粒大影响到每一个芯片。其颗粒移除率（PRE）需要达到或接近。工厂生产的光刻版需要经常清洗。为了光刻版洁净，定期对光刻版进行清洗，而清洗的效果与清洗工艺在设备和清洗液选用上的合理配置有着密切的关系。
一、光刻板清洗工艺：
1.1、原有去除光刻胶及其他有机污染物的方法
对于光刻胶及其他有机污染物，比较常见的方法是：种利用丙酮浸泡光刻版，在浸泡的同时可以超声提高浸泡效果。对于比较干净的光刻版，浸泡基本就能将有机污染物去除干净。对于光刻胶较多的光刻版，浸泡只能将光刻胶泡软，还需要用无尘布或无尘棉蘸丙酮轻轻擦洗，或在光刻版清洗设备中采用毛刷刷洗，通过外力将顽固的光刻胶去除掉。刷洗完成后，通常采用高压水冲洗光刻版，通过高压微细水滴的冲击力去除仍然吸附在光刻版表面的剩余光刻胶。
二种办法采用浓硫酸和过氧化氢的混合物清洗，再用去离子水冲洗，去除光刻胶。随后的清洁即去除图案化、检查和修复任何残留在光刻版表面的光刻胶或颗粒污染物。强氧化剂清洗之后再用氢氧化铵喷雾，以抵消残留酸，然后用去离子水冲洗以消除硫酸铵。
1.2、新型去除光刻胶及其他有机污染物的方法
TD牌新型去除光刻胶清洗液是本公司自主研制开发的高新技术产品，具有自主知识产权，TD牌新型光刻胶清洗液是一种利用分子置换原理达到光刻板除胶、除油、除尘、防氧化的新型清洗技术。TD牌新型光刻胶清洗液对光刻板表面没有任何损伤和腐蚀，具有环保、、无腐蚀性、不燃等性能，使用安全、、环保。是替代国际上通用丙酮和酸性清洗液的安全性产品。TD牌新型光刻胶清洗液产品优点：工作环境大幅改善，清洗液不用加温、不用水，可重复使用、无废液排放，清洗干净，安全环保。使用方法是浸泡清洗、一步完成。
二、光刻版清洗效果：经测试在全自动光刻版清洗机上，LED厂家的光刻版进行了清洗，清洗前后在200倍的显微镜下效果，如图所示。能够很明显看到，光刻胶被有效去除。

三、结论
光刻版清洗的新技术、新材料TD牌新型光刻胶清洗液替代了两种常用的光刻版清洗工艺材料，达到安全环保、清洗干净、清洗液不用加温、无废液排放、可重复使用目的。
包头市新兴新能源科技开发有限公司

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